第116章 对光源系统的改进[2/2页]

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    nbsp; nbsp在各位工程师的眼里，这样的改造比起14nm的工艺甚至有一些倒退，但是，工作既然是这样安排的，郭一既然如此的有信心，那就折腾一番也无妨。

    nbsp实在不行，也就是耽误几天生产的事儿，大不了之后再改回来就是了，也不费多大的功夫。

    nbsp如果不是郭一露了一手在先，人还没到就把28nm的工艺升级成14nm了，那今天再让这些工程们做今天这样的事情，所有人都会质疑，甚至是会反对的。

    nbsp但现在，他们虽然都发现了端倪，但经过郭一确认后，他们都没再吱声。

    nbsp老老实实的按照郭一的方案改造着，一边改造，还一边在思考，这其中究竟有没有什么特别的用意？我究竟有没有哪个地方疏忽还是漏掉了？

    nbsp这就是权威的作用，只露了一手的郭一，现在在这些工程师眼里，那已经成了权威。

    nbsp废话，全世界没人能做到的事情，人家没露面就做到了，这还不是权威，那什么才是权威？

    nbsp何兴瞅了瞅常凯，心里有些不安：难道这家伙已经看懂这些改造的端倪了？他怎么就这么淡定？这么从容？

    nbsp芯片生产工艺本身就是一个极为复杂的过程，牵一发而动全身，考虑不周的情况实在是不罕见。

    nbsp确实会存在某个步骤误差比较大，却是故意而为的情况。

    nbsp其目的就是为了冲抵另一个过程造成的误差，这是一种冲抵矫正方案。

    nbsp完成了自己的工作之后，何兴又仔细的研究了一遍整体的方案，还是没有发现任何的端倪。

    nbsp在现有的光刻机条件下，这样的改造确实提升不了生产工艺和良率，反倒会增加曝光后图形的偏差。

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    nbsp“等等！现有的光刻机条件？”何兴突然意识到了什么：“郭工现在可是不在啊，他干什么去了？莫非……”

    nbsp一个大胆的念头从何兴的脑海里冒了出来：那就是升级光刻机！

    nbsp升级硬件当然是不可能的，但升级软件……

    nbsp“光学临近效应引起的图像偏差问题！”何兴立即意识到问题的关键所在。

    nbsp他一直在A1厂，这台光刻机他可以说是了如指掌，光刻机的控制程序确实有可以升级的空间，他们一直也跟厂家有反馈。

    nbsp但，那都是小打小闹似的升级。

    nbsp“如果，彻底改造控制程序，进一步修正193nm极限工艺下的邻近效应导致的曝光图像偏差问题……”

    nbsp何兴脑洞大开，有了这样的想法，即便知道没什么可能，他还是立即对这个方案进行了计算验证。

    nbsp不计算还好，这一计算，何兴是直接被惊到了——郭一的改造方案竟然真的是照着这个思路再走！

    nbsp换言之，郭一的改造方案就是这个！

    nbsp“他竟然真的能够进一步改进光学邻近效应引起的图像偏差？”

    nbsp看着最终的计算的数据竟然如此吻合，何兴也是直接瘫在了椅子上：

    nbsp“他也不是生产光刻机的专家啊，这可能吗这？这要让魔都微电子知道了，他们不得疯掉啊！这哪是改进生产工艺啊，这直接是改造光刻机了都！”

    nbsp即便何兴不是光刻机的专业人士，他也知道光刻机最大的两个核心部件，一个就是镜头，另一个就是光源。

    nbsp光源最核心的问题，其实就是修正这个光学临近效应引起的图像偏差。

    喜欢。

第116章 对光源系统的改进[2/2页]

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