第113章 必须对光刻机的系统进行改造[2/2页]

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    nbsp即便非开不可的会，他也喜欢开小会开短会，上来就说重点问题，说完就各干各的去，从不玩儿毫无意义的长篇大论那一套。

    nbsp“看来，这是一个实干家啊！”常凯最后感慨道：

    nbsp“不会这就直接上手为再次改进生产工艺进而生产7nm芯片去做论证了吧？”

    nbsp这，还真让常凯说准了，郭一的目的就是这个，否则他连吴州都不会来，有这时间，直接待在中州睡大觉不香吗？这些天他忙得睡觉的时间比起一年前减少了至少三分之二。

    nbsp实地来到工厂，跟看工程师们给的生产流程详细资料，那是完全不同的感觉。

    nbsp这一切都在眼中，郭一只要一愣神，那就是一番极致的推演。

    nbsp现代的制造工厂，即便是最高端的芯片制造工厂，那也不可能完美无瑕，这世界上就不存在完美无瑕的东西。

    nbsp郭一这一推演，这些瑕疵根本就无所遁形，直接展现在眼前。

    nbsp其中一些瑕疵无关紧要，改进成本较高，对整个生产工艺的影响也不是很大，郭一直接就略过了。

    nbsp他要找的就是那些关键性的控制节点，比如这个——掩膜版与晶圆的对准工艺。

    nbsp掩膜版与晶圆的对准至关重要，它将直接限制芯片的集成密度和电路的性能。

    nbspA1工厂现在正在使用的这款步进扫描投影光刻机，采用的是四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术。

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    nbsp这种步进扫描投影光刻机在对准的过程中，晶圆片并不直接对准掩膜，而是圆片和掩膜经过各自的光路，对准于曝光系统的光学链上。

    nbsp而这两个过程的精准匹配非常重要，些微的系统误差对芯片的性能就会产生影响。

    nbsp郭一也是一遍又一遍的重复着现在的这个过程的推演，他不是没找到问题，但找到这个误差容易，但要消除它，那也确实没那么简单，需要极为精密的调整。

    nbsp当大量光穿过掩膜时，不可避免的会造成掩膜材料的发热，发热膨胀，这是一个无法避免的事情。

    nbsp即便是掩膜版采用了热膨胀系数极低的材料，在0.71度的温度变化下也会产生0.1微米的膨胀。

    nbsp可不要小看这0.1微米，就是它造成的掩膜版和晶圆片的对准精度误差，从而影响了之后的曝光精度和制程工艺。

    nbsp“热膨胀无法避免，这个系统内几乎所有原件都受到热膨胀的影响。”

    nbsp郭一这样思索着：“而这里边一定有某种联系，也绝对存在某种恰好的选择，使得这些热膨胀之间通过各自的相互作用，最后达到一种完美的效果。”

    nbsp郭一这样想着，脑子里渐渐有了一个解决方案。

    nbsp光刻机是精密的，但在郭一眼里，它再精密能精密的过人类的大脑吗？

    nbsp大脑接收信息的规律都被总结出来了，光刻机所使用的这些关键材料才多少？

    nbsp总结出一个把各种材料的热膨胀影响相互抵消的方案，那根本就没有多大的难度。

    nbsp相比于之前的总结大脑视觉信号规律，这个甚至要简单的多了。

    nbsp“不过，这就涉及到另外一个问题，那就是光刻机的控制系统了。”

    nbsp郭一闭上眼，点了点头，确认现在光刻机的控制系统是不适用自己的改造方案的。

    nbsp“必须对光刻机的系统进行改造。”郭一心里有了决定。

    喜欢。

第113章 必须对光刻机的系统进行改造[2/2页]

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